Campagne de collecte 15 septembre 2024 – 1 octobre 2024 C'est quoi, la collecte de fonds?
2

Mechanistic framework for dry etching, beam assisted etching and tribochemical etching

Année:
1996
Langue:
english
Fichier:
PDF, 342 KB
english, 1996
9

Bilayer resist used in e-beam lithography for deep narrow structures

Année:
1999
Langue:
english
Fichier:
PDF, 3.92 MB
english, 1999
10

DUV resists in negative tone high resolution electron beam lithography

Année:
1999
Langue:
english
Fichier:
PDF, 2.58 MB
english, 1999
11

Classification of impact-assisted etch mechanisms

Année:
1998
Langue:
english
Fichier:
PDF, 293 KB
english, 1998